|
реклама |
|
|
|
|
|
|
Инженерная физика Аннотация к статье << Назад
Влияние параметров имплантации на формирование доменов легирующих примесей в нанорельефе кремниевой подложки |
Г.А. Тарнавский, С.С. Чесноков
Проводится компьютерное моделирование нанотехнологического процесса легирования (методом ионной имплантации) нановыступа рельефа поверхности кремниевой подложки. Изучается влияние основных параметров процесса (типа имплантанта, энергии и угла имплантации) на положение и конфигурацию допинг-доменов фосфора, бора и мышьяка.
Ключевые слова: нанотехнологии, компьютерное моделирование, имплантация, легирующие примеси, кремний.
E-mail: Gennady.Tarnavsky@gmail.com.
Стр. 19-25.
|
|
|
|
Последние новости:
Выставки по автоматизации и электронике «ПТА-Урал 2018» и «Электроника-Урал 2018» состоятся в Екатеринбурге Открыта электронная регистрация на выставку Дефектоскопия / NDT St. Petersburg Открыта регистрация на 9-ю Международную научно-практическую конференцию «Строительство и ремонт скважин — 2018» ExpoElectronica и ElectronTechExpo 2018: рост площади экспозиции на 19% и новые формы контент-программы Тематика и состав экспозиции РЭП на выставке "ChipEXPO - 2018" |